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[其他模版] 可进行多属性调节的双重曝光创建器AE模板

时间:2016-3-18 17:28 0 20 | 复制链接 |
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双重曝光效果是一个集艺术性和美丽性于一体的创意图像技术,不论是摄影照片,还是视频影像,在双重曝光的作用下,都会呈现出不一样的画面效果。这款双重曝光创建器在实现这种效果的同时,提供了非常简单、易于编辑、修改的参数和属性调节工具。
   导入图片并进行抠像处理后,mask蒙版的角度、位置、B&W强度、渐变覆盖、背景透明度等多个属性都是可以进行调节的。当然研究它的制作方法才是重中之重。强烈推荐学习!
   默认的预览版可以添加32张摄影图片内容+34段文本内容,掌握制作方法后,完全可以进行更多内容的再创作和添加。
【版本要求】
建议使用10.5(AE CS5.5)或更高的AE版本打开
【模板尺寸】
3840*2160
【时间长度】
预览版时长1:24,可自定义
【文件大小】
543M
nv1cxdwarzp262331.jpg
【预览】

技术支持:一品素材 备案号:晋ICP备16005058号-1

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