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[logo标志] 明亮干净的三维反光标志演绎AE工程

时间:2016-7-8 11:51 0 15 | 复制链接 |
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这款标志演绎特效以其明亮干净的反光和反射效果为主要特点。
创建这枚三维挤出标志并没有使用任何外部插件,而是和纹理固态层进行蒙版处理后再进行多层复制后得到的,可以参考[extrusion]合成进行查看和学习。
另外就是反光和反射效果的创建了,在[Reflection Texture]合成中可以自行进行反射贴图的制作,也可以像预览中那样直接用一张图像来替代,效果都是非常不错的。
这款标志演绎特效非常适合学习,特别推荐!
【版本要求】
建议使用 AE CS5 或更高的AE版本打开
【模板尺寸】
1920*1080
【时间长度】
0:12
【文件大小】
3.55M
atmoc12anlu3361.jpg
【预览】

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